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  • 臺(tái)式殘余奧氏體分析儀
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產(chǎn)品名稱:

臺(tái)式殘余奧氏體分析儀

產(chǎn)品型號(hào): AreX D
更新時(shí)間: 2023-05-31
品牌:
生產(chǎn)地址:
在許多工業(yè)生產(chǎn)加工過程中,對(duì)殘余奧氏體含量的控制非常嚴(yán)格,測(cè)量其含量,對(duì)于鋼鐵熱處理過程中產(chǎn)品特性和質(zhì)量的控制有重大意義。因?yàn)榛瘜W(xué)蝕刻和傳統(tǒng)金相研究存在靈敏度和度較低的情況,所以無法做到工業(yè)生產(chǎn)中對(duì)殘余奧氏體的測(cè)量,而X射線衍射法可以測(cè)量低至0.5%的殘余奧氏體含量,故ASTM頒布E975標(biāo)準(zhǔn)方法:X射線法測(cè)量近無規(guī)結(jié)晶取向鋼中殘余奧氏體的含量,AreX D 正是根據(jù)此標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)開發(fā)。
  • 詳細(xì)內(nèi)容

 

儀器簡(jiǎn)介

在許多工業(yè)生產(chǎn)加工過程中,對(duì)殘余奧氏體含量的控制非常嚴(yán)格,測(cè)量其含量,對(duì)于鋼鐵熱處理過程中產(chǎn)品特性和質(zhì)量的控制有重大意義。因?yàn)榛瘜W(xué)蝕刻和傳統(tǒng)金相研究存在靈敏度和度較低的情況,所以無法做到工業(yè)生產(chǎn)中對(duì)殘余奧氏體的測(cè)量,而X射線衍射法可以測(cè)量低至0.5%的殘余奧氏體含量,故ASTM頒布E975標(biāo)準(zhǔn)方法:X射線法測(cè)量近無規(guī)結(jié)晶取向鋼中殘余奧氏體的含量,AreX D 正是根據(jù)此標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)開發(fā)。

鋼構(gòu)件加工后的強(qiáng)度、耐久性和尺寸穩(wěn)定性影響構(gòu)件在使用中的可靠性。殘余奧氏體含量對(duì)這些性能至關(guān)重要。材料試驗(yàn)可以量化鋼構(gòu)件中殘留奧氏體的數(shù)量。x射線衍射被認(rèn)為是分析殘余奧氏體水平準(zhǔn)確的技術(shù),它能夠檢測(cè)少量的殘余奧氏體。我們使用自己的TEC 4000 x射線衍射系統(tǒng)和MAX便攜式解決方案與無心衍射儀,可以在實(shí)驗(yàn)室或生產(chǎn)環(huán)境中測(cè)量大型和不規(guī)則形狀的零件。


臺(tái)式殘余奧氏體分析儀主要特點(diǎn)
1、結(jié)構(gòu)緊湊,節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間,風(fēng)冷式X射線管;
2、采用穩(wěn)定的微聚焦50瓦M(jìn)o靶射線管,Zr濾光片;
3、配備高像素USB攝像頭,樣品定位方便、;
4、具有用于X射線安全保護(hù)的連鎖裝置;
5、可測(cè)奧氏體220/311、鐵素體200/211的衍射峰值強(qiáng)度;
6、多衍射峰測(cè)量方式能夠減少晶體優(yōu)化取向帶來的影響;
7、軟件界面設(shè)計(jì)簡(jiǎn)潔友好,操作簡(jiǎn)便;
8、快速測(cè)量,測(cè)量時(shí)間小于3 分鐘。

 

 

使用步驟

1、準(zhǔn)備樣品:將待測(cè)材料制成標(biāo)準(zhǔn)試樣,并進(jìn)行研磨和拋光處理,確保表面平整光滑。
2、安裝樣品:打開儀器蓋子,將樣品放置在樣品架上,確保樣品與探頭相切并貼合緊密。
3、設(shè)置參數(shù):根據(jù)待測(cè)材料的類型和處理要求,設(shè)置好溫度、時(shí)間、冷卻速率等參數(shù)。
4、運(yùn)行測(cè)試:按下啟動(dòng)按鈕,儀器開始運(yùn)行測(cè)試程序,加熱樣品到規(guī)定溫度并保持一段時(shí)間后,以設(shè)定速率冷卻到室溫。
5、獲取數(shù)據(jù):測(cè)試結(jié)束后,取出試樣并用金相顯微鏡觀察,在對(duì)應(yīng)的視場(chǎng)位置記錄下亮相和暗相區(qū)域的圖像和比例值。
6、分析結(jié)果:利用計(jì)算機(jī)軟件對(duì)獲取的數(shù)據(jù)進(jìn)行處理和分析,得出樣品中殘余奧氏體的含量和形態(tài)等信息。
7、清潔儀器:測(cè)試結(jié)束后,關(guān)掉電源并清潔儀器表面和內(nèi)部,確保儀器的正常使用壽命和準(zhǔn)確性。

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