全反射X射線熒光(TXRF)前處理方式的考量

全反射X射線熒光(TXRF)是一種微量分析方法，特別適用于樣品量小的樣品，一次分析所需樣品量，固體材料可達μg級，液體樣品則通常少于100μL。

TXRF受自身原理限制，樣品于玻片上必須滿足薄層的要求，以消除普遍存在于EDXRF中的基體影響。因此，其樣品量明顯減少，且前處理方式也有著明顯不同。

通常，可根據樣品形態(tài)選擇合適的前處理方式，且可能需要考慮如下的幾點要求：

a.   于樣品玻片上形成均勻的薄層；

b.   待測元素及內標元素均勻分布；

c.   待測元素的富集；

d.   待測元素與干擾元素的分離；

e.   阻止樣品溶液擴散；

基于以上因素，TXRF所采用的前處理既繼承了部分常見無機元素檢測中的方法，又發(fā)展出了具有自身特色的前處理方式，如下圖：